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最新!光刻胶重大突破

分享于 2021-07-02 09:34:39
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6月30日晚间,上海新阳半导体材料股份有限公司(以下简称“上海新阳”)发布公告称,公司自主研发的KrF厚膜光刻胶产品近日已通过客户认证,并成功取得第一笔订单。

此前3月,上海新阳发布公告称,由芯刻微公司委托盛吉盛(宁波)半导体材料有限公司(以下简称“盛吉盛”)代理投标,成功中标,购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台,该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。


据上海新阳介绍,KrF(248nm)厚膜光刻胶产品的开发和产业化是公司第三大核心技术——光刻技术的重要方向之一,本次产品认证的通过及订单的取得,标志着“KrF(248nm)厚膜光刻胶产品的开发和产业化” 取得了成功,为上海新阳在光刻技术领域目标的全面完成奠定了坚实基础。


光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料,广泛应用于350nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。随着国内晶圆厂建设的不断增多,以及国外光刻胶巨头产能受限,供需紧张,国内对光刻胶产品的需求也将快速增长。


此次上海新阳光刻胶产品取得首笔订单订单可谓是意义重大。上海新阳表示,本次产品认证的通过及订单的取得,标志着“KrF(248nm)厚膜光刻胶产品的开发和产业化” 取得了成功,为上海新阳在光刻技术领域目标的全面完成奠定了坚实基础。上海新阳光刻胶产品的订单取得意义重大,将对公司该类产品的认证及销售产生积极的作用,有利于上海新阳业务的长期发展。

*免责声明:以上内容仅供交和流学习之用。如有任何疑问或异议,请留言与我们联系。
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