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修正
中国光刻,重大进展!
人傍凄凉立暮秋
分享于 2021-06-15 09:24:26
近日,中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出一种基于虚拟边与双采样率像素化掩模图形的快速光学邻近效应修正技术,仿真结果表明该技术具有较高的修正效率。 (
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分类:
行业新闻
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